CF3I (4N)
產品詳情
化學品名稱：三氟碘甲烷
化學式：CF3I (SDS)
化學文摘社登記號碼(CAS.NO)：2314-97-8
分子量：195.91 g/mol
蒸氣壓：4.72 bar@20℃
熔點：-110 ℃
沸點：-22.5 ℃
半導體應用
CF₃I（三氟碘甲烷）是半導體製造中具有高度價值的重要氣體，廣泛應用於電漿蝕刻、化學氣相沉積（CVD）、表面修飾以及氟化反應。其高氟含量使其能有效進行蝕刻與沉積含氟薄膜，這類薄膜對於半導體元件的絕緣與保護至關重要。CF₃I 具備高選擇性、低損傷與優異的製程穩定性，特別適用於先進製程節點中的高精度蝕刻、薄膜沉積及表面處理等關鍵應用。
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