CH2F2 (5N)
產品詳情
化學品名稱:二氟甲烷
化學式:CH2F2 (SDS)
化學文摘社登記號碼(CAS.NO):75-10-5
分子量:52 g/mol
蒸氣壓:13.8 bar@20℃
熔點:-136℃
沸點:-51.7 ℃
半導體應用
CH₂F₂(二氟甲烷)是半導體製造中的關鍵氣體之一,主要應用於電漿蝕刻、化學氣相沉積、表面處理及氣體混合製程。它在蝕刻含氟材料、金屬與介電層方面發揮重要作用,同時也可用於沉積含氟薄膜,實現絕緣與保護功能。憑藉優異的蝕刻選擇性、低污染特性,以及穩定的氟化膜形成能力,CH₂F₂ 在現代半導體先進製程中佔有重要地位。
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