CHF3 (5N)
產品詳情
化學品名稱:三氟甲烷
化學式:CHF3 (SDS)
化學文摘社登記號碼(CAS.NO):75-46-7
分子量:70 g/mol
蒸氣壓:47.4 bar@25℃
熔點:-155.18 ℃
沸點:-82.16 ℃
半導體應用
CHF₃(三氟甲烷)是半導體製造中極為重要的氣體,廣泛應用於電漿蝕刻、化學氣相沉積及先進製程技術中。它主要用於蝕刻介電層、金屬層與低介電常數材料(Low-k),同時也可用於沉積含氟薄膜,以提供絕緣與保護功能。憑藉高選擇性、低污染與精密控制能力,CHF₃ 在先進節點的半導體製造中扮演關鍵角色,是現代晶片生產不可或缺的關鍵材料之一。
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