化學品名稱：氟化甲基化學式：CH3F (SDS)化學文摘社登記號碼(CAS.NO)：593-53-3分子量：34 g/mol蒸氣壓：33 bar@20℃熔點：-142℃ 沸點：-77.5℃
CH₃F（氟甲烷）主要應用於半導體產業中的蝕刻、化學氣相沉積、氣體混合與表面處理等製程。由於其具備優異的選擇性與低污染特性，CH₃F 成為半導體製程中不可或缺的重要氣體來源，特別適用於微細加工與高精度控制等應用場景。
