Kr (5N)

純度
  • ≥ 99.999% (5N)
包装规格
  • 49L
填充量
  • 10M3
产品细节

化学品名称:氪气
化学式:Kr  (SDS)
CAS登记号:7439-90-9
分子量:83.8 g/mol
熔点:-157.2℃  
沸点:-152.9℃

半导体行业应用

氪气作为多功能关键工艺气体,在半导体制造中主要应用于等离子体刻蚀、离子注入、薄膜沉积、光刻及等离子清洗等核心制程。其惰性特性和重离子生成能力,使其成为精密刻蚀、离子掺杂及薄膜沉积的理想工艺气体。此外,氪灯和准分子激光器(KrF 248nm)广泛应用于光刻技术,为制造更小尺寸、更复杂结构的半导体器件提供关键光源支持。氪气凭借其独特物化特性,显著提升了半导体制造的工艺精度与生产效率,对先进半导体器件的研发具有不可替代的作用。

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