CF3I (4N)

純度

• ≥ 99.99% (4N)

包装规格   

• 47L

净重 

• 70KG

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化学品名称：三氟碘甲烷
化学式：CF3I (SDS)
CAS登记号：2314-97-8
分子量：195.91 g/mol
蒸汽压：4.72 bar@20℃
熔点：-110 ℃ 
沸点：-22.5 ℃

三氟碘甲烷（CF3I）是半导体制造领域的关键工艺气体，主要应用于等离子体刻蚀、化学气相沉积（CVD）、表面改性和氟化反应等制程。其高氟含量特性使其能高效实现氟基薄膜的刻蚀与沉积，这对半导体器件的绝缘保护和功能实现至关重要。该气体凭借高选择性、低损伤性以及在先进制程节点的卓越表现，已成为半导体行业刻蚀工艺、薄膜沉积和表面处理等高精度制程不可或缺的气体材料。