CH2F2 (5N)
产品细节
化学品名称:二氟甲烷
化学式:CH2F2 (SDS)
CAS登记号:75-10-5
分子量:52 g/mol
蒸气压:13.8 bar@20℃
熔点:-136℃
沸点:-51.7 ℃
半导体行业应用
二氟甲烷(CH2F2)是半导体制造领域的重要工艺气体,主要应用于等离子体刻蚀、化学气相沉积(CVD)、表面处理及混合气体配置。该气体在氟化物、金属及介质层的刻蚀加工中发挥关键作用,同时可用于沉积含氟功能薄膜。凭借其高刻蚀选择性、低污染特性以及优异的氟基成膜能力,CH2F2已成为现代半导体制程中不可或缺的气体原料。
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