CHF3 (5N)
产品细节
化学品名称:三氟甲烷
化学式:CHF3 (SDS)
CAS登记号:75-46-7
分子量:70 g/mol
蒸气压:47.4 bar@25℃
熔点:-155.18 ℃
沸点:-82.16 ℃
半导体行业应用
三氟甲烷(CHF3)是半导体制造中的关键工艺气体,主要应用于等离子体刻蚀、化学气相沉积及先进制程技术。该气体既可用于介电层、金属及低k材料的刻蚀加工,又能沉积氟基绝缘保护薄膜。其特有的高选择性、低污染和精密控制特性,使其成为先进节点半导体器件制造中不可或缺的工艺气体,尤其是在先进制程节点。
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