化学品名称:氟化甲基化学式:CH3F (SDS)CAS登记号:593-53-3分子量:34 g/mol蒸汽压:33 bar@20℃熔点:-142℃ 沸点:-77.5℃
CH3F(氟甲烷)主要应用于半导体行业的刻蚀、化学气相沉积、混合气体配置及表面处理工艺。由于其具有高选择性和低污染的特性,CH3F成为半导体加工中重要的气体源,尤其适用于精密加工和高精度控制领域。