準分子雷射氣體

產品

規格

包裝

10PPMXe/3.5%Ar/Ne Mixture

5N/6N/5N

49L

0.95%F2/1.25%Kr/Ne Mixture

3N/5N/5N

49L

1.25%Kr/Ne Mixture

5N/5N

49L

0.95%F2/3.5%Ar/Ne

3N/6N/5N

49L

半導體應用

準分子雷射氣體(Excimer Laser Gases)在半導體製造中扮演著不可或缺的角色,尤其在光微影、雷射蝕刻、材料加工和薄膜沉積等製程中。準分子雷射能夠產生精確且高能量的紫外光,這使得半導體製造商能夠創造出具有細微圖案和高密度電路的先進半導體設備。隨著半導體技術不斷向更小的製程節點和更複雜的設計邁進,準分子雷射在實現所需的精度和性能方面的作用將變得更加重要。

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